RF Manyetik Saçtırma


Radyo frekansı güç kaynağı ile elektromanyetik dalgalar oluşturulur. Bu dalgalar eşleştirme ünitesi sayesinde vakum odası içerisinde titreşim frekansı oluşturarak hedef materyalin iyonize olmasını sağlar. Frekansın yüksek olması, ortamda oluşturulan plazma deşarjını sürekli hale getirir.

Bu teknikte, iyonlaşmış soy gaz atomlarını hızlandırmak amacıyla kullanılan elektriksel alana ek olarak bu elektriksel alana dik doğrultuda bir de manyetik alan uygulanmaktadır. Uygulanan bu manyetik alan sayesinde elektronlar sarmal yörünge boyunca hareket ederler.

Elektronların bu sarmal yörünge sebebiyle yolları uzadığı için hareketleri boyunca daha çok sayıda nötr soy gaz atomları ile çarpışma yaparak hedef üzerindeki konsantrasyonu arttırırlar. Bundan dolayı da hedeften atom koparma işlemi daha yoğun bir şekilde gerçekleşir ve aynı zamanda daha düşük basınçlarda plazma oluşturulabilir. Hedeften kopan elektronların tabana ulaşması oluşturulan manyetik alan sayesinde önlendiği için taban üzerindeki filmin ısınması da bir dereceye kadar önlenmiş olur.

RF sisteminin avantajları;

  • Yalıtkan, metal alaşım ve kompozit malzemelerden oluşan geniş bir malzeme aralığında kaplama yapılabilme imkanı sunar.
  • Düşük ark sağlar ve şarj etkilerini önler.
  • Kararlı üretim süreci sağlar.
  • Plazma verimliliği yüksektir
  • Düşük basınçlarda üretim gerçekleştirilebilir.
  • Pürüzsüz ince film üretimi sağlar.

 

Şirketimiz bünyesinde üretime ve ihtiyaca yönelik RF Manyetik Sıçratma cihazı tasarlanarak, üretimi yapılmaktadır.

 

Detaylı bilgi için lütfen iletişime geçiniz.